企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 江苏 南京 |
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孟先生 先生
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手机号码: | 15190025037 |
公司官网: | www.0512zxy.com |
公司地址: | 苏州市吴中区国家环保产业园 |
发布时间:2022-06-17 18:49:45
电池片的检验
振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,El,不良测试,二手,旧,工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,***偿还,返工,光伏模块回收等。
背电场:
A 级:
背电场完整,厚薄均匀,允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 15% 。
新的标准:背电场完整,厚薄均匀,不允许有缺失
B 级:
允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 10% ,变色面积不超过背电场面积的 30% 。
新的标准:允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 15% 。
C 级:
允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 10% ,变色面积不超过背电场面积的 50% 。
新的标准:缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 50% 。
粗点:
粗点宽度≤ 0.18mm ,个数小于 2 个
新的标准:不允许有粗点
粗点宽度≤ 0.25mm ,个数小于 5 个
新的标准:允许有粗点,粗点宽度≤ 0.18mm ,个数小于 2 个
粗点宽度≤ 0.3mm ,个数小于 8 个
新的标准:当主栅线或副栅线有明显粗细不均时,应用刻度显微镜进行查检。
电池片的制作工艺
丝网印刷
基本原理
基本原理:利用网版图文部分网孔透墨,非图文部分网孔不透墨的基本原理进行印刷。印刷时在网版上加入浆料,刮胶对网版施加一定压力,同时朝网版另一端移动。浆料在移动中从网孔中挤压到承印物上,由于粘性作用而固着在一定范围之内。由于网版与承印物之间保持一定的间隙,网版通过自身的张力产生对刮胶的回弹力,使网版与承印物只呈移动式线接触,而其它部分与承印物为脱离状态,浆料与丝网发生断裂运动,保证了印刷尺寸精度。刮胶刮过整个版面后抬起,同时网版也抬起,并通过回墨刀将浆料轻刮回初始位置,完成一个印刷行程。
丝网结构
网版,刮胶,浆料,印刷台,承印物
浆料体系
银铝浆:背面导体,作为背电极,提供可焊性。
铝浆:背面导体,作为背面电场,收集电流。
银浆:正面导体,作为正电极,收集电荷。
电池片丝网印刷技术
振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,El,不良测试,二手,旧工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,多晶硅,单晶硅,实验板,***偿还,返工,光伏模块回收等。
电池片丝网印刷技术
1 引言
随着***能源的日趋紧张,太阳能以无污染、市场空间大等独有的优势受到世界各国的广泛重视,国际上众多大公司投入太阳能电池研发和生产行业。从太阳能获得电力,需通过太阳能电池进行光电变换来实现,硅太阳能电池是一种有效地吸收太阳能辐射并使之转化为电能的半导体电子器件,广泛应用于各种照明及发电系统中。
2 硅太阳能电池的生产工序
太阳能电池原理主要是以半导体材料硅为基体,利用扩散工艺在硅晶体中掺入杂质:当掺入硼、磷等杂质时,硅晶体中就会存在着一个空穴,形成 n 型半导体;同样,掺入磷原子以后,硅晶体中就会有一个电子,形成 p 型半导体, p 型半导体与 n 型半导体结合在一起形成 pn 结,当太阳光照射硅晶体后, pn 结中 n 型半导体的空穴往 p 型区移动,而 p 型区中的电子往 n 型区移动,从而形成从 n 型区到 p 型区的电流,在 pn 结中形成电势差,这就形成了电源。
硅太阳能电池生产的主要工序,从中可以看出丝网印刷是生产太阳能电池的重要工序,其印刷质量(厚度,宽度,膜厚一致性)影响电池片的技术指标。
电池片生产工艺流程
振鑫焱光伏科技有限责任公司长期购置:天价回收硅片,电池片,初中级光伏电池,银浆布,单晶硅,光伏电池,太阳能电池板,太阳能组件,太阳能光伏板,顾客撤离,退级,库存量,El,欠佳检测,二手,旧工程项目,拆装,道路路灯,拆卸发电厂,拆装,人造板,聚酰薄膜,***限结晶硅,光伏电池,单晶硅,试验板,负债还款,返修,太阳能发电控制模块收购等。
电池片生产流程
一
、
制绒
a.
目地
在硅单晶的表面产生坑凹状表面,降低电池片的反射的自然光,提升二次反射的总面积。
一般状况下,用碱解决是以便获得金字塔状磨砂皮;用酸处理是以便获得虫孔状磨砂皮。无论是哪样磨砂皮,都能够提升硅单晶的陷光***。
b.步骤
1.
基本标准下,硅与单纯性的HF、HNO
3
(硅表面会被钝化处理,二氧化硅与HNO
3
不反映)觉得不是反映的。但在二种混和酸的管理体系中,硅则能够与水溶液开展不断的反映
。
硅的氧化
***化钠/(HNO
2
)将硅氧化成二氧化硅(关键是将硅氧化)
Si 4HNO
3
=SiO
2
4NO
2
2H
2
O
(慢反映
3Si 4HNO
3
=3Si
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