企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 江苏 南京 |
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孟先生 先生
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公司地址: | 苏州市吴中区国家环保产业园 |
发布时间:2022-07-09 20:57:56
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芯片又是现代化的微型“知识库”,它具有神话般的存储能力,在针尖大小的硅片上可以装入一部24卷本的《大英百科全书》。如今世界上的图书、杂志已
多达3000多万种,而且每年都要增加50多万种,可谓浩如烟海。德国未来学家拜因豪尔指出:“今天的科学家,即使整日整夜地工作,也只能阅读本***全部
出版物的5%。”出路何在呢?办法就是由各个图书情报资料中心负责把各种情报存入硅片存储器,并用通信线路将其连接成网。这样,科技人员要查找某种
资料和数据时,只要坐在办公室里操作计算机键盘,立即就会在计算机的荧光屏上显示出所要查询的内容。
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半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离
子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、***残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括
***金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、***、微生物、有机胶体纤维等,会导
致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
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硅片示踪原子分析和质谱分析表明,采用***体系清洗硅片,同时所用的全部化学***
H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时,在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一种酸性
清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物,***性小,也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后,都要用超纯水彻底冲洗
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硅石要求有一定的粒度。硅石的粒度是冶炼的一个重要工艺因素。硅石适宜粒度受硅石种类、电炉、容量、操作状况以及还原剂的种类和粒度等多种因素影
响,要根据具体的冶炼条件来决定。一般情况下,6300KVA三相电炉(1983年大悟硅厂建成),要求硅石粒度在8-100mm,3200KVA三相电
炉,要求硅石粒度为8-80mm,而且中间粒度组成的比例要大些。
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