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3、刻蚀

在扩散工序，采用背靠背的单面扩散方式，硅片的侧边和背面边缘不可避免地都会扩散上磷原子。当阳光照射，P-N结的正面收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到P-N结的背面，造成短路通路。短路通道等效于降低并联电阻。刻蚀工序是让硅片边缘带有的磷的部分去除干净，避免了P-N结短路并且造成并联电阻降低。

湿法刻蚀工艺流程：上片→蚀刻槽（H2SO4HNO3HF）→水洗→碱槽（KOH）→水洗→HF槽→水洗→下片

HNO3反应氧化生成SiO2，HF去除SiO2。刻蚀碱槽的作用是为了抛光未制绒面，使电池片变得光滑；碱槽的主要溶液为KOH；H2SO4是为了让硅片在流水线上漂浮流动起来，并不参与反应。

干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀。当气体以等离子体形式存在时，一方面等离子体中的气体化学活性会变得相对较强，选择合适的气体，就可以让硅片更快速的进行反应，实现刻蚀；另一方面，可利用电场对等离子体进行引导和加速，使等离子体具有一定能量，当轰击硅片的表面时，硅片材料的原子击出，可以达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。

　　5、背面铝背电极完整，无明显凸起的“铝珠。

　　6、单晶硅电池片上不允许出现肉眼可见的裂纹。

　　7、单晶硅电池片不可有缺角、边缘损坏。

　　8、检验每个小包装外观、标签及数量。

　　9、每个大箱的包装外观及总数量(每箱抽检不少于2包，检验以上项目)。

　　10、厂家规格说明书并注意核对实际发货的参数。

        太阳电池组件中， 单体太阳电池之间的连接是用金属导电带串联或并联焊接的。 目前常用的晶体硅太阳电池封装工艺如下。依次将钢化白玻璃—EVA（乙烯共聚 物 ）—太 阳 电 池 片—虹 吸 玻 璃—EVA—PVF（聚氟乙烯）复合膜叠起， 放入层压封装机内进行封装。

如何清洁电路板

许多电路板乱七八糟的东西不需要压缩空气就能清除干燥的污染物，例如污垢和灰尘。对于更持久的混乱，您可以使用蒸馏水和软刷或小苏打之类的清洁剂帮助分解混乱，而不会损坏电路板本身。

为了使用所有电路板清洁方法获得效果，您可能需要使用螺丝刀打开设备，以更好地接触电路板。

考虑到所有这些，请按照以下方法清洁电路板条。

1.压缩空气–为了定期维护电路板，请获取一罐压缩空气并将其喷入设备的通风孔内，以帮助清除灰尘和碎屑。如果您认为需要进一步清洁，请打开设备以更好地接触电路板。

2.小苏打–小苏打中的碳酸氢钠有助于分解污垢和在肮脏的PCB（印刷电路板）上形成的腐蚀，而不会损坏电路板。

3. 异***–同样，您可以使用异***分解粘性碎屑。百分之九十或更高的酒精效果，因为它会很快干燥。处理该材料时，应戴好手套和护目镜进行保护。何时以及如何用酒精清洁电路板将取决于您要处理的烂摊子。

4. 蒸馏水–尝试制作电路板清洗液时，应使用蒸馏水，因为它在清洗时不会损坏电子设备。但是，请务必保管好水，因为水可能会被污染。

5. 家用清洁剂–如果此清单上的其他材料对您不起作用，则家用清洁剂可以用作电路板清洁剂喷雾剂。但是，如果您使用一种，请确保它不含磷酸盐，因为磷酸盐会损坏电路。